集成电路布图设计侵权的构成要件

1、第一、行为人侵犯了他人受保护的布图设计权。我国《条例》规定对集成电路布图设计专有权采取登记取得制度，当事人只有向国家知识产权局递交权利申请文件，经其审查核准并予以登记公告后才能取得专有权利。布图设计只有在登记以后，才开始受法律保护。对于登记之前或者保护期满的布图设计，因其不受法律保护，第三人对其实施复制或商业利用的行为不视为侵权。因此，对于布图设计的侵权行为，侵犯的必须是应当受保护的布图设计权。

2、第二、行为人的行为不合法，即违法行为。具体表现为行为人未经布图设计权人的许可，而擅自对布图设计进行复制或商业利用。依据我国《条例》第二十四条的规定，受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品由布图设计权利人或经由其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经过布图设计权利人许可，并无需支付报酬。这说明，他人复制或商业利用布图设计的行为是否经由权利人许可是构成对布图设计侵权判断的关键。如果是未经布图设计权人许可而对布图设计实施的复制和商业利用行为是不合法行为，构成侵权。

3、第三、行为人是以营利为目的而实施侵权。我国《条例》第二十三条规定，为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可以不经布图设计权利人许可，并无需支付报酬。该规定将以合理目的使用布图设计的行为排除在了侵权范围之外。也就是说，只有那些以营利为目的而对布图设计进行复制或商业利用的行为，才构成侵权。

4、第四，行为人主观上有过错。侵犯布图设计权的归责原则适用过错责任原则。这是与侵权规定原则的发展一致的，自十九世纪以来，过错责任己成为各国侵权行为法的普遍归责原则。侵犯布图设计的过错应当包括故意和过失。如果行为人主观上存在过错，则构成侵权。