臭氧层被破坏的主要原因是什么

人类过多地使用氯氟烃亿姣灵秀类化学物质（用CFCs表示）是臭氧层被破坏的主要原因。氯氟烃是一种人造化学物质。在第二次世界大战后，尤其是进入20世纪60年代以后，氯氟烃大量用作气溶胶、制冷辎坯涛阼剂、发泡剂、化工溶剂等。

另外，哈龙类物质（用于灭火器）、氮氧化物也会造成臭氧层的损耗。

扩展资料

臭氧层的保护

发展中国家必须于2005年之前将氟氯烃的排放量冻结在1995－1997年的平均数量上，而发达国家已于1996年间基本停止使用这些消耗臭氧层的主要物质。

因此，必须积极寻找新的制冷工质来代替氯氟烃类物质，世界各国已经进行了许多新的尝试，主要是应用两类制冷剂和确定三个发展方向。

两类制冷剂为混合制冷剂和单一制冷剂，三个发展方向是使用HCFC，HFC及天然工质。HFC是氢氟碳物质，其典型代表是单一工质R134a和混合工质R407c，这种物质的臭氧破坏指数ODP值为0。

HCFC是氢氯氟碳物质，其典型代表是R22，其ODP值为0.05。天然工质的典型代表为氨、CO2和碳氢类物质，如R600等。

参考资料来源：百度百科-臭氧层破坏物质